氧化铝抛光粉

氧化铝抛光粉

常州科纳达氧化铝抛光粉是一种以高纯度α-Al₂O₃为核心成分的化学抛光材料，广泛应用于金属、半导体及精密元件的表面处理。其核心特性、应用领域及技术优势如下：

一、核心特性

（1）高硬度与高效切削
α-Al₂O₃的切削速率快，尤其适用于硬质材料（如不锈钢、陶瓷、蓝宝石）的抛光。例如，在蓝宝石衬底抛光中，其切削速率可达每小时7-10μm，效率较传统二氧化硅抛光粉提升2.3倍。

（2）粒径分布范围窄

常州科纳达氧化铝抛光粉有不同规格，可供选择。产品粒度在1微米左右，粒径分布窄，可实现精抛工序。

（3）化学稳定性好

氧化铝抛光粉不溶于水及酸碱，化学性质稳定，抛光过程中无有害物质释放。

二、应用领域

1、半导体行业：芯片制造中，晶圆抛光至关重要。科纳达氧化铝抛光粉可用于硅、碳化硅等晶圆的化学机械抛光（CMP），控制晶圆表面平整度，实现全局平坦化，为后续芯片制造奠定高质量基础。

2、光学领域：光学镜片、棱镜、光学玻璃等产品，表面微小瑕疵会影响光学性能。科纳达氧化铝抛光粉凭借纳米级粒径与抛光性能，能有效去除表面划痕、麻点等缺陷。

金属领域：科纳达氧化铝抛光粉能有效去除金属材料表面的瑕疵，使其表面光滑平整，提升整体质感。同时，抛光后的金属材料表面能更好地抵御外界环境的侵蚀，保持长久的美观。

三、使用方法与注意事项

使用方法：

在进行抛光操作前，先将适量的氧化铈抛光液均匀涂抹在待抛光材料表面或抛光工具（如抛光轮）上。

启动抛光设备，根据材料的硬度和抛光要求，调整合适的转速、压力和抛光时间。对于硬度较高的材料，可适当提高转速和压力；对于精度要求极高的表面，应控制好抛光时间，避免过度抛光。

在抛光过程中，保持抛光工具与材料表面的均匀接触和稳定运动，确保抛光液能够充分发挥作用，实现均匀的抛光效果。

抛光完成后，使用清水或专用的清洗液将材料表面残留的抛光液清洗干净，确保表面无残留。对于一些对表面洁净度要求极高的应用场景，可采用超声波清洗等辅助手段进行深度清洗。

四、注意事项：

2、建议使用前先将抛光液充分摇匀，确保其浓度和成分的均匀性。

2、使用时，可先少量试样测试效果。

3、本品储存环境应保持阴凉、干燥，避免阳光直射和高温环境。

五、联系方式

联系人：徐经理180-6851-2798

霍经理188-0150-5792

翟经理188-1627-8509