氧化锆

氧化锆

常州科纳达氧化锆粉末：高精度抛光

在精密制造与表面处理领域，氧化锆粉末凭借其的物理化学性能，成为抛光领域的核心材料。常州科纳达新材料科技有限公司自主研发的纳米级氧化锆粉末（KND-GW30），以高纯度、晶相稳定、粒径均匀等特性，在光学元件、半导体晶圆、航空航天材料等高端抛光场景中展现出显著优势。

一、核心性能：晶相稳定与高硬度铸就高效抛光

常州科纳达氧化锆（KND-GW30）采用单斜型晶体结构，其高硬度特性使粉末在抛光过程中具备更强的切削力，可去除材料表面微凸起，同时避免因磨料变形导致的抛光效率衰减。

晶相稳定性是常州科纳达氧化锆（KND-GW30）的另一大优势。在高温或高压力抛光环境下，单斜型晶体结构不易发生相变，确保粉末粒径分布与切削性能的长期稳定。这一特性使其特别适用于需要长时间连续抛光的场景，如半导体晶圆的全局平坦化（CMP）工艺。

二、粒径控制：纳米级分散实现超精密抛光

氧化锆（KND-GW30）其粒径控制在30-50nm范围内，纯度为99%

三、应用场景：覆盖多领域抛光需求

1、精密光学元件抛光：镜头、棱镜、滤光片等高精度光学元件制造。

2、半导体晶圆抛光：硅晶圆、化合物半导体（如砷化镓、磷化铟）的全局平坦化（CMP）工艺。其莫氏硬度达8.5，切削力强，同时避免因磨料变形导致的抛光效率衰减。

3. 航空航天材料抛光：钛合金、高温合金等难加工材料的表面处理。高硬度颗粒在抛光过程中形成密集切削刃群，均匀去除微观缺陷，避免局部应力集中。

四、注意事项

1、进行氧化锆抛光测试前，可先少量试样测试抛光效果。

2、本品储存环境应保持阴凉、干燥，避免阳光直射和高温环境。

五、联系方式

联系电话：180-6851-2798（徐经理）

                 188-0150-5792（霍经理）

                 188-1627-8509（翟主管）

                 188-6117-8211（霍晓莉）

                 180-6855-1362（许昕钰）