常州科纳达半导体抛光液

常州科纳达半导体抛光液

常州科纳达新材料科技有限公司生产的半导体抛光液，通过定制化配方满足半导体制造中不同材料与工艺的抛光需求，具有高精度、高效率、低损伤等特性，在半导体晶圆、光纤等领域有广泛应用。

一、产品原理

半导体抛光液是化学机械抛光（CMP）工艺的核心材料，通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用，实现晶圆表面的全局平坦化。其所含的活性成分可使晶圆表面的材料形成一层极易去除的薄层，同时，纳米级的磨料在抛光垫施加的压力下，对晶圆表面的凸起部分进行去除，以达到原子级别的平整效果。

二、产品特点

常州科纳达半导体抛光液分散性好，悬浮性佳，不易沉淀，粒径小，分布均匀，不易划伤表面，可有效去除表面缺陷，达到高精度抛光效果。

三、产品应用

1、半导体制造

晶圆抛光：科纳达半导体抛光液均可用于半导体晶圆的抛光，满足芯片制造的平坦化需求。

化合物半导体抛光：针对磷化铟（InP）、砷化镓（GaAs）等化合物半导体材料，科纳达提供定制化的抛光液，满足其独特的抛光需求。例如，磷化铟材料因其高电子迁移率、直接带隙特性及良好的光电性能，在光通信、高频器件等领域具有重要应用。但其莫氏硬度仅为3，质地软脆，传统机械抛光易导致表面划痕或破碎。科纳达的抛光液通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用，确保抛光质量。

2、光纤制造

常州科纳达的抛光液可用于光纤的抛光，提高光纤的表面质量和传输性能。

3、其他高精度制造领域

光学玻璃抛光：适用于相机镜头、棱镜等光学玻璃的抛光，通过调整浓度与抛光参数，实现亚纳米级表面粗糙度（Ra<1nm），提升透光率与成像质量。

四、定制化服务

常州科纳达可根据客户需求调整抛光液的固含量、粒径分布等参数，适配不同工艺。例如，针对不同材料的抛光需求，提供不同粒径和分布的抛光液；针对不同抛光阶段（粗抛、精抛、终抛），提供不同浓度含量的抛光液。

五、联系方式

联系电话：180-6851-2798（徐经理）

     188-0150-5792（霍经理）

     188-1627-8509（翟主管）

     188-6117-8211（霍晓莉）

      180-6855-1362（许昕钰）