氧化硅抛光液
在材料加工与精密制造领域,抛光工艺的优劣直接影响着产品的终质量与性能。常州科纳达新材料科技有限公司凭借在材料研发生产方面的深厚底蕴,推出的氧化硅抛光液在行业内备受瞩目。
一、产品特性
科纳达氧化硅抛光液外观呈现均匀的乳白色,具备良好的分散稳定性,确保在使用过程中,抛光液中的氧化硅颗粒不会发生团聚现象,从而保证抛光效果的一致性与稳定性。其氧化硅颗粒粒度可控,处于纳米级范畴,粒径规格有 50纳米,100 纳米左右,微小且均一的颗粒尺寸,使得抛光过程能够实现极为精细的表面处理,有效避免加工元件产生刮伤。
二、产品规格
常州科纳达氧化硅抛光液产品目录 | ||||||
产品名称 | 型号 | 外观 | 固含 | 形貌 | 粒径范围 | 性质 |
氧化硅抛光液 | KND-GP30 | 灰白色液体 | 30% | 球形 | 100nm | 水性,非离子 |
氧化硅抛光液 | KND-GP40 | 灰白色液体 | 40% | 球形 | 50nm | 水性,非离子 |
三、适用场景
1、半导体领域
在半导体制造环节,尤其是集成电路多层布线中隔离层氧化硅的抛光工序,科纳达氧化硅抛光液是不二之选。由于氧化硅在浅沟槽隔离(STI)和层间介质(ILD)中广泛应用,成为多层金属布线的关键骨架结构,对其表面平整度和精度要求极高。科纳达抛光液能够去除氧化硅表面的微小瑕疵与不平整,为后续的半导体器件制造工艺奠定良好基础,确保电子元件之间实现稳定、高效的绝缘隔离,保障半导体器件的正常运行,提升集成电路的整体性能与可靠性。2、光学产品加工
对于光学晶体、蓝宝石、石英、红外晶体以及各类光学镜片等产品的加工,科纳达氧化硅抛光液同样表现。在光学领域,产品表面的任何细微缺陷都可能导致光线散射、折射异常,进而严重影响光学性能。该抛光液凭借纳米级颗粒的精细磨削能力,能够将光学产品表面粗糙度降低,显著提升产品的透光率、清晰度以及光学均匀性,满足光学仪器、光纤通信、高端摄影摄像镜头等对光学元件超高精度的严苛要求。
3、陶瓷与金属材料加工
在陶瓷材料加工方面,像陶瓷手机盖板、陶瓷基片等产品,氧化硅抛光液可有效改善陶瓷表面的光洁度与耐磨性,提升陶瓷制品的外观质感与使用寿命。针对金属材料,例如不锈钢、铝件、锌合金等,抛光液能够去除金属表面的氧化层、划痕以及加工痕迹,使其呈现出光亮如新的表面效果,同时在一定程度上提高金属材料的防腐蚀性能,广泛应用于机械制造、装饰装潢等行业。
四、产品说明
请在进行抛光测试时可先拿小样测试,测试无误后进行大批量测试。
科纳达氧化硅抛光液为满足不同客户的使用量需求,提供多种包装规格,其中常见的为 25kg / 桶。每一批次产品在出厂前都经过质量检测,从产品源头保障客户的使用体验与加工效果。
五、联系方式
联系人:徐经理180-6851-2798
霍经理188-0150-5792
翟经理188-1627-8509
咨询电话:
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